500~1200nm宽带减反膜的研制

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为满足现代军用综合性光学仪器一机多用,要求光学系统的工作波段覆盖可见光及近红外,所以研制500-1200nm波段超宽带减反膜。根据双有效界面法和膜系设计软件优化设计膜系,采用混合材料H4、SiO2和MgF2三种材料制备宽带减反膜。通过实验分析了误差产生的原因,借助膜系设计软件对结果采用变尺度法进行模拟优化,通过对工艺参数的反复实验调整,在制备过程中改变每层膜厚的修正系数,解决了厚度误差对光谱特性的影响,最终用国产真空镀膜机制备了超宽带减反膜,在500-1200nm波段平均反射率R≤0.5%。
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