近年来随着密度泛函理论和第一性原理计算方法的发展以及计算机技术的飞速进步,采用第一性原理对材料的性质进行研究已经成为凝聚态物理和材料科学领域的一门重要学科。本论文的工作主要是通过基于密度泛函理论的第一性原理计算,结合分子轨道理论、半导体理论以及磁学相关知识对氧化物半导体材料及有机小分子中的磁性及其相关特性进行探索和研究,涉及的领域主要包括磁性半导体等相关知识。自旋电子学又称自旋传输电子学或自旋基电子学,是当今凝聚态物理研究中的热点领域,它不仅利用了电子的电荷自由度而且同时利用其自旋自由度作为信息的载体,通过材料的带隙和自旋子带的劈裂对电子电荷和自旋的物理行为进行调控,进而实现信息的传输、处理和存储,制备把标准微电子学和自旋相关效应相结合的器件。铁磁性半导体的研究是自旋电子学研究中的一个重要领域,它主要寻找把半导体性质和铁磁体性质相结合的材料。铁磁性半导体的优点是它们具有作为自旋极化的载流子源的潜力,并且很容易集成到半导体器件中。理想的铁磁半导体要求居里温度大于室温,并且不仅可以引入p型掺杂,同时还可以制备以型半导体。传统上主要是通过在半导体中掺杂过渡金属离子来制备铁磁半导体的,通过过渡金属离子间的铁磁耦合作用使半导体材料具有本征磁性,而不改变半导体材料的主要晶格结构等半导体性质。过渡金属元素在半导体材料中的溶解度通常比较低,过渡金属离子间的距离太大不足以产生铁磁耦合作用；而近邻的掺杂离子间也可能形成反铁磁耦合作用。同时,由于过渡金属离子容易形成团簇及二次相等结构,过渡金属掺杂的半导体材料中的磁性是否本征等仍具有争议。另外,实验上发现本征缺陷对材料的磁性有重要影响,甚至在未掺杂的半导体或者绝缘体、金属材料中发现了室温铁磁性,这给研究铁磁半导体材料中的磁性来源及其耦合机制带来了新的挑战。因此,通过第一原理计算对过渡金属掺杂半导体材料的磁性、缺陷对过渡金属掺杂半导体材料磁性的影响、未掺杂半导体或绝缘体、金属材料中的磁性来源进行研究,对于理解铁磁半导体的磁性来源,进一步制备具有高居里温度的本征铁磁半导体具有重要意义。传统的自旋电子学研究主要集中在无机领域,而有机自旋电子学是一门新的有前景的研究学科,它采用有机材料作为媒介来传输或者调控自旋极化信号,是有机电子学和自旋电子学相结合的学科。一方面有机材料具有价格低廉、重量轻、柔韧性好、可设计性强等优点；另一方面,利用电子自旋又可以制备非挥发性器件,同时由于自旋动力学的响应能量尺度比电荷小的多,自旋电子学器件还具有潜在的高速率、低功耗等优点。有机半导体在自旋电子学领域最有吸引力的方面是它们具有非常弱的自旋散射机制,其自旋轨道耦合作用非常小,这预示着载流子的自旋极化可以维持相当长的时间。由于有机半导体与铁磁电极材料电导率不匹配导致了自旋注入效率低下,开发有机磁性半导体是可能的解决方案之一,而采用过渡金属元素掺杂有机材料来制备有机铁磁半导体是人们首先想到的研究方法。第一性原理计算作为凝聚态物理学中重要的研究方法,在以上领域也具有广泛的应用。通过计算可以对材料的磁性及相关特性进行研究分析,从理论上解释实验现象,并且可以为实验提供新的思想和指导。本论文的主要研究内容和结论如下：1.未掺杂氧化镁中的磁性首先对未掺杂氧化镁中的磁性来源进行了研究。研究结果表明Mg空位可以在MgO中引起局域磁矩,而氧空位无论浓度如何都不能产生局域磁矩。局域磁矩主要来源于部分占据的eg-和tlu-轨道(或者只有eg-轨道),键导(through-bond)自旋极化机制可以传输MgO中的铁磁性。对两个Mg空位掺杂的块体MgO基态结构,反铁磁态与铁磁态的能量差只有28 meV,不足以克服室温下的热扰动,同时块体中镁空位的形成能较高,缺陷数量较少。因此,室温下块体结构中的铁磁态不稳定。对MgO薄膜,Mg空位倾向于在表面区域形成,因为表面位置上Mg空位的形成能比次表面和块体内部要低。更进一步地,MgO量子点中Mg空位的形成能降低非常多,这允许更大浓度的Mg空位形成。结论是,在量子点中当大量浓度的Mg空位存在从而引入足够的空穴时,磁性可以持续。这与在MgO的纳米晶结构中发现了磁性的实验结果是一致的。2.未掺杂二氧化钼中的磁性采用第一性原理对未掺杂MoO2中的电子结构和磁学性质进行了研究,计算过程中分别采用了GGA和GGA+U方法。计算结果表明在完美的MoO2中没有磁矩形成。对含有Mo空位的MoO2, GGA的计算结果显示有少量磁矩形成,然而采用GGA+U方法时发现磁矩有明显下降,如果Mo原子的本位(on-site) Coulomb能采用U=-1 eV,则没有任何磁矩可以形成,因此采用GGA计算得到的由Mo空位导致的磁矩可能是由于对Mo原子的本位Coulomb能过度估计的结果。当存在第二种类型(typeⅡ)的氧空位时,无论GGA还是GGA+U的计算结果均显示无论这种类型的空位浓度如何均不能导致体系中局域磁矩的形成。然而,两种方法的结果均显示第一种类型的氧空位(typeⅠ)可以导致体系中形成局域磁矩,并且局域磁矩之间是铁磁耦合的,因此氧空位应该是未掺杂MoO2中磁性的主要来源。两种不同类型的氧空位之间不同的结构性质以及由此导致的电荷密度重分布性质不同是磁性行为不同的原因。对磁性耦合作用,Ruderman-Kittel-Kasuya-Yosida (RKKY)作用和间接的超交换作用机制共同传导磁性。3.掺杂氧化锌中的磁性及相关特性通过对半导体材料进行掺杂可以改变其性质,不同的掺杂材料以及不同的结构形态对材料的性质有不同的影响。通常掺入3d过渡金属元素是在半导体中引入磁性常用的方法,而掺入其他元素也会对材料的导电、光学等其他相关特性具有重要的影响。我们对过渡金属元素铬(Cr)掺杂氧化锌的磁学性质进行了研究,并且讨论了本征空位对其磁性的影响。研究结果表明,Cr掺入ZnO材料后会在费米能级处引起明显的自旋极化,体系的总磁矩为3.77μB。Cr原子之间的铁磁交换作用是短程的并且随掺入Cr原子间距离的增加而减弱。在只有少量浓度的Cr存在时铁磁态并不稳定。而O空位的存在可以导致半金属态的铁磁态更加稳定,因此可以预期存在更高的居里温TC。另一方面,Zn空位的存在可以导致铁磁稳定性有轻微下降。通过对形成能的计算可以发现,在O富足的条件下,锌空位和铬替代锌形成的VZn+CrZn结合体可以自发形成。然而在Zn富足的条件下,氧空位和铬替代锌形成的VO+CrZn结合体却更容易形成。因此,Cr掺杂的ZnO中会出现一定浓度的本征空位并对磁性产生不同的影响。我们还研究了锆(Zr)掺杂氧化锌的结构、电子结构、导电及光学等其他相关特性。一般来说,Zr元素掺入ZnO中会形成n型掺杂。选取不同的超晶胞结构包含Zn15O16Zr、Zn23O24Zr和Zn31O32Zr等分别模拟了ZnO中掺入不同Zr含量的情况。Zr掺入ZnO中一般会形成三种结构：(1)Zr原子取代Zn原子(ZrZn)、(2)Zr原子形成填隙原子(Zri)、(3)Zr原子取代O原子(Zro)。我们对这三种不同的掺杂结构进行了计算,并根据计算结果对其电子结构及光学等相关特性进行了分析,这些理论结果将会较好的解释以前的实验结果。计算结果表明Zrzn缺陷的形成能最低,这预示着ZrZn结构比其他两种结构更容易形成,因而它的浓度在样品中最高,对样品的性质也具有更重要的影响。随着Zr掺杂含量的增加,ZnO的晶格常数会增加,而其光学带隙先变大然后变小,这些结果与以前的实验结果是一致的。对电子能带结构的计算表明,当掺入Zr时,ZrZn缺陷引入ZnO中,其费米能级往导带方向移动,因此导带会出现额外的电子,这会导致掺杂氧化锌出现n型导电性质,并且导电性能会提高,这可能是Zr掺杂ZnO薄膜具有良好导电性的一个重要原因。4.钴掺杂8-羟基喹啉铝的磁性采用第一性原理计算对过渡金属元素钴(Co)掺杂8-羟基喹啉铝(Alq3)的电子结构和磁学性质进行了研究。计算结果表明Co掺杂Alq3中会出现局域磁矩,并且磁矩主要来源于Co原子上局域化的d轨道。掺杂之后,Co原子与Alq3分子发生相互作用,导致电子从Co原子转移到Alq3分子上。Co原子处于正价,其d轨道上的上下自旋的电子占据不同,因此出现局域磁矩。转移的电子主要局域在喹啉基配位体上,这会导致束缚磁极化子(bound magnetic polarons)的形成。自旋与同一个磁性离子反平行排列的两个束缚磁极化子之间的间接铁磁交换作用会引起集体性的宏观磁性,这可以解释最近的实验结果。