硅基异质结和硅纳米片的制备及其光催化降解水中有机污染物的性能

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光催化技术可利用太阳能催化有机污染物降解,是一种具有战略意义的水污染控制技术。光催化技术的核心是光催化材料,多数光催化材料存在吸光范围窄(仅能吸收紫外光)的问题。硅材料不仅可以吸收紫外光,还可以吸收可见光和红外光,具有光吸收范围广的优点。但硅材料在水中易被氧化生成SiO2,阻碍了硅的吸光及硅与溶液界面处的光生电荷传导,削弱了硅材料光催化性能。此外,光生电荷分离效率低、价带空穴氧化能力弱,也是限制硅材料光催化降解污染物的重要因素。针对以上问题,本研究通过在硅表面覆盖α-Fe2O3或SnO2层并与硅构成异质结,抑制硅氧化的同时促进光生电荷分离,并通过制备二维纳米硅,利用量子限域效应提高其稳定性和价带空穴的氧化能力。具体研究内容和主要结果如下:(1)采用化学浴法在硅片(SiW)、硅微米柱(SiMP)和硅纳米线(SiNW)表面沉积α-Fe2O3层制备 SiW@α-Fe2O3、SiMP@α-Fe2O3 和 SiNW@α-Fe2O3 复合光催化材料。通过光电流密度-时间测试发现,SiMP的光电流在140 min内衰减至0 mA/cm2而SiMP@α-Fe2O3的光电流在-0.011 mA/cm2保持稳定,说明复合材料光生电荷分离能力稳定,覆盖α-Fe2O3层可抑制硅氧化。线性伏安曲线表明,SiW@α-Fe2O3、SiMP@α-Fe2O3和SiNW@α-Fe2O3的光电流分别为SiW、SiMP和SiNW光电流的3.8倍、4.3倍和5.3倍(偏压为-1.0 V vs.SCE时),说明硅材料覆盖α-Fe2O3后形成的异质结可以促进光生电荷分离。以SiNW为基底制备的SiNW@α-Fe2O3具有最高的光电流(1.6mA/cm2),分别为SiW@α-Fe2O3和SiMP@α-Fe2O3光电流的5.3倍和2.5倍。以苯酚和4-氯酚作为目标物考察了上述三种材料的光电催化性能,在-1.0 V(vs.SCE)偏压下SiNW@α-Fe2O3光电催化降解20 mg/L苯酚的动力学常数为0.40 h-1,分别是SiW@α-Fe2O3和SiMP@α-Fe2O3光电催化降解苯酚动力学常数的4.0倍和2.2倍;SiNW@α-Fe2O3光电催化降解4-氯酚的动力学常数为0.40 h-1,分别是SiW@α-Fe203和SiMP@α-Fe2O3光电催化降解4-氯酚动力学常数的5.0倍和3.1倍。(2)采用化学气相沉积法在Si片表面依次沉积SnO2和TiOx薄膜制备Si-SnO2-TiOx。SnO2薄膜具有透明度高(透光率为70-80%)、导电性好(电导率为1.1 × 10μS/cm)的优点,作为Si和TiOx之间的电子介体,既可以充分透射入射光至Si片表面,又利于TiOx的电子迁移到Si的价带从而促进电荷分离。此外,透明导电的SnO2薄膜还可以隔绝Si与水溶液的接触,增强Si的抗氧化性能。在1.6 V(vs.SCE)偏压下,Si-SnO2-TiOx的光电流达到0.6 mA/cm2,分别是单独Si片和无电子介体的Si-TiOx光电流的60倍和4倍,说明Si-SnO2-TiOx具有更强的电荷分离能力。以苯酚作为目标物考察了 Si-SnO2-TiOx光电催化性能,在-1.0 V(vs.SCE)偏压下Si-Sn02-TiOx光电催化降解20 mg/L苯酚的动力学常数为2.68 h-1,是Si-TiOx光电催化动力学常数的33.5倍。构建以Si-Sn02-TiOx作为光阳极的光化学池,阳极进行光电催化苯酚氧化降解,阴极催化CO2还原。反应3h后,20 mg/L苯酚的降解率为73%,还原CO2的产物为甲醇、甲酸、乙醇和乙酸,产率分别为 1.0、5.3、1.9 和 10.4 μmol/(h.cm2)。(3)采用金属插层剥离CaSi2的方法制备了硅纳米片(SiNS)。通过扫描电镜和透射电镜证明所制备的SiNS为二维片层结构。由紫外可见漫反射光谱得出SiNS禁带宽度为2.40 eV,是体相硅(1.12 eV)禁带宽度的2.1倍;由X射线光电能谱和莫特肖特基测试得出SiNS价带位置为1.25 eV,与体相硅(0.60 eV)相比,价带能级提高了 0.65 eV,说明价带空穴的氧化能力提高。通过镁热还原法、SnO2包覆法和惰性气氛退火法处理SiNS分别得到SiNSMg、SiNSSnO2和SiNSanneal,由X射线光电能谱测试得到上述三种材料中Si0含量分别为27%、9%和4%,结合循环伏安测试结果发现催化材料的抗氧化性与Si0的含量正相关,SiNSMg的Si0含量最高且光电流最稳定、抗氧化性最强。以苯酚为目标物考察了上述三种硅材料的光催化性能,SiNSMg光催化降解20 mg/L苯酚的动力学常数为0.40 h-1,分别是SiNSSnO2和SiNSanneal光催化动力学常数的1.1倍和2.5倍。
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