XUV光栅系统波像差理论的研究

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近年来,真空紫外和软X射线(XUV)在生物、材料、微加工、超大规模集成电路和空间光学研究领域得到了广泛的应用,这些领域的应用及研究对XUV光学系统的设计、装置的性能都提出了很高的要求。然而,由于XUV波段对于空气和几乎所有的材料都是吸收的,因此工作在该波段的光学元件常采用反射元件,同时为了得到高的能量反射率,往往采用掠入射光学结构,这就使得光学系统的像差非常严重,极大的影响到仪器的能量分辨率和空间分辨率。目前存在的像差理论大多针对单元件系统,而实际应用中,XUV光学装置都是由若干个元件组合而成。为了满足实际应用的需要,更好的开发、设计XUV高性能的复杂光学系统,有必要开发适用于多元件系统的像差理论。 本课题在M.P.Chrisp超环面全息光栅波像差理论的基础上,对XUV多元件光学系统的波像差理论、优化设计方面进行拓展性的研究。具体工作如下: 1、基于M.P.Chrisp波像差理论,仍采用像散面为参考波阵面,然后应用多项式形式表示光栅的面形方程,推导出一般面形光栅的十六项波像差系数,使波像差理论可以对超环、椭球、抛物面等面形在内的光栅进行像差分析;同时,推导了全息和机械刻划光栅的刻槽分布函数;并且分别讨论了光栅面形、刻槽分布和孔径光阑位置移动对波像差的影响。 2、以像散面作为参考波阵面,得到出射波面为像散面、像平面放在任意位置处的几何像差表达式,克服了M.P.Chrisp工作中出射波阵面只能是球面且像面位置在焦平面的限制。 3、把拓展后的波像差理论运用到光栅和光栅系统的实践中,模拟其成像情况,结合光线追迹程序Shadow的拟合结果,从数值上对所得结论进行验证。 4、分析光栅波像差理论的误差和误差存在的原因,简单讨论该理论的适用范围。 以上各项工作,拓展了波像差理论的应用范围,为XUV多元件系统的像差分析和优化设计提供了理论依据。
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