GMAW-P焊熔滴过渡模糊控制的研究

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一脉一滴是GMAW-P烛最理想的一种过渡形式,熔滴直径与焊丝直径相当,对焊接质量有利.该文设计了四种工艺方法:无中值、前中值、后中值、中中值等方法.该文采用Simulink工具系统地建立了GMAW-P焊动态过程的仿真模型,将仿真结果进行对比,两者吻合很好,说明了所建立的模型是合理的、实用的.依据GMAW-P焊过程电弧电压和焊接电流的精度要求以及熔滴过渡过程的速度要求,设计了以微控制器80C320为核心的硬件控制系统和软件系统;通过对焊接试验场所干据扰源的分析,进行了软硬件抗干扰设计.试验证明:所设计的软硬件系统和抗干扰措施完全满足要求.采用前中值方法对铝进行焊接试验研究,确定了最佳的中值电流和中值时间.在焊距离高度突变时,以基值时间为控制量、峰值电压为被控制量,对电弧电压进行了模糊控制的研究.
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