ZnMgO薄膜及其异质结的制备及光电性能研究

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本文采用脉冲激光沉积(PLD)法分别在r面蓝宝石和p-Si基片上制备了Zn_(1-x)Mg_xO(x=0.1、0.3、0.5、0.7、0.9)薄膜和n-Zn_(0.5)Mg_(0.5)O/p-Si异质结,通过X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)、拉曼光谱、光致发光(PL)谱、透射光谱、吸收光谱对所制备的薄膜进行了表征和性能分析,探讨了Mg掺杂量对薄膜结构、形貌及光电特性的影响。并在制备n-Zn_(0.5)Mg_(0.5)O/p-Si异质结的基础上系统研究了其伏安特性及激光能量对异质结器件瞬态
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