掺SiO2钴铁氧体薄膜的制备及物性研究

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【摘要】

：

钴铁氧体(CoFe2O4)薄膜作为一种高密度的磁记录介质,其具有较高的矫顽力和垂直各向异性,较好的化学稳定性以及耐磨损性。本论文主要研究了SiO_2的掺入对CoFe2-xSixO4(x=0,0.1,0.2,0.3)薄膜微观结构及磁性能的影响,所用基片分别为Si(100)和MgO(100)。采用射频磁控溅射法制备了CoFe2-xSixO4/MgO薄膜,薄膜具有尖晶石结构,且结晶取向与退火温度有关,

【作者】

：

陈强

【机构】

：

电子科技大学

【发表日期】

：

2010年04期

【关键词】

：

磁记录钴铁氧体薄膜基片磁性能

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