【摘 要】
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ZnO为宽带隙半导体材料,其室温下的禁带宽度为3.37eV,激子束缚能达到60meV。ZnO作为一种比较新的化合物半导体材料,可用于制作光电器件、声表面器件、太阳能电极、气敏元件等多
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ZnO为宽带隙半导体材料,其室温下的禁带宽度为3.37eV,激子束缚能达到60meV。ZnO作为一种比较新的化合物半导体材料,可用于制作光电器件、声表面器件、太阳能电极、气敏元件等多种领域。随着半导体发光器件在工业与生活中的应用,ZnO日益受到人们的关注。纳米ZnO材料因具有紫外区域发光等诸多独特性质,它的制备方法以及性能自然而然的也成为了人们所关注的焦点。电化学方法具有沉积速度快,操作的温度较低以及可在复杂衬底表面生长出材料等诸多优点,因此在材料合成领域受到了广泛的研究。本文以单晶硅为衬底,乙酸锌与六次甲基四胺为电解溶液,利用uECS电化学沉积系统制备了纯ZnO纳米材料。再通过在溶液中添加乙酸锰、乙酸钴制备了Mn掺杂ZnO纳米材料以及Co掺杂ZnO纳米材料。并利用XRD、SEM、PL等方法对样品的形貌、结构以及光学性质进行了表征。首先通过改变电沉积过程中的参数以及乙酸锌与HMT的摩尔比例,优化了材料的生长条件。在掺杂ZnO的研究方面,通过改变过渡金属的掺杂浓度,试图寻找了Mn与Co分别对应的最佳的掺杂比例。实验制备的ZnO纳米材料为纳米棒结构。表征结果表明Mn2+与Co2+成功掺杂到ZnO的晶格之中,且形貌一定,棒两端呈正六角形。与未掺杂的纳米ZnO材料相比,Mn掺杂与Co掺杂的的纳米ZnO材料,紫外区发光有所增强,蓝光区域的发光峰得到了更好的抑制。还利用第一性原理进行了具有缺陷的Mn掺杂纳米ZnO材料的定性分析。利用纤锌矿结构ZnO超原胞模型,分析了可能的缺陷结构,并分析了Mn掺杂ZnO的电子性质。
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