等离子体中的杂质一方面会导致等离子体辐射增加,使芯部温度下降,从而影响到磁流体稳定性;另一方面会稀释聚变原料,降低聚变反应速度,因而有效控制等离子体中杂质含量是保障未来聚变反应堆稳态运行的关键。托卡马克等离子体中的杂质含量主要由芯部杂质输运状态和边界杂质源决定。改变限制器相对等离子体的电位差能调节等离子体与限制器的作用过程,同时还会改变边界流状态,从而影响到边界的杂质产生及其输运。本文通过在J-TEXT托卡马克限制器上施加偏压并观察其对等离子体参数及杂质辐射的影响,探索其用于控制杂质的可能性。为了研究边界杂质辐射行为,J-TEXT托卡马克装置已搭建有多套光谱及辐射诊断系统,并新建有一套真空紫外（VUV）光谱诊断系统。本文完成了VUV光谱诊断标定与升级,并结合相关诊断开展了限制器偏压对等离子体杂质行为影响的实验探究。本文主要对以下五点展开论述,一、自主设计了通光孔阵列校准铝板,实现了对VUV光谱诊断在不同波段下的观测方位校准;二、采用结合原子分子数据库（ADAS）和一维杂质模拟程序STRAHL的碰撞辐射线比值法,利用碳III（C III 97.7nm、C III 229.7nm和C III 465nm）、碳IV（C IV 154.8nm和C IV 580nm）、碳V（C V 227.1nm）、氧V（O V 278.1 nm、O V 283.6nm）等谱线完成了对VUV光谱诊断系统绝对响应度的标定;三、采用微通道板探测器（MCP）和电子倍增电荷耦合探测器（EMCCCD）替换了VUV光谱诊断原有的CCD探测器,使其时间分辨率由30ms提高到2ms。四、研究了限制器偏压的极性对托卡马克等离子体的影响,发现上限制器正偏压更有利于提高等离子体粒子约束性能;五、研究了不同位置限制器对杂质的影响,发现低场侧限制器正偏压更利于增强边界杂质屏蔽和杂质扩散,从而减少等离子体芯部杂质浓度。