氢化碳、硅和锗团簇的结构与稳定性的研究

来源 :山西师范大学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:lishimuyi
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由于富勒碳及其衍生物的特殊结构和在电子器件、储氢材料等方面潜在的应用价值,所以一直是物理学家、材料学家和化学家的研究热点。同时,和碳同一主族的硅和锗团簇也因为其在半导体器件方面的应用价值,越来越吸引人们的注意力。本论文中,我们采用密度泛函理论对C60Hn(n=2-20,24)的结构和稳定性进行了研究。结果表明:除了C60Hn(n=2-6)外,最稳定的C60Hn(n=8-20,24)结构均源于非五元环最大分离(non-IPR) C60团簇。其中,源于6个non-IPR C60团簇的部分C60Hn(n=10-20,24)结构比源于Ih对称性的C60的C60Hn (n= 10-20,24)结构稳定。理论计算还发现,在这些non-IPR C60团簇中,当所有的五元环共享键(N55)都被氢原子占据后,它们的结构更稳定。采用HF和密度泛函理论对Si60H60的结构和稳定性进行了研究。结果表明:在1812个全外接式Si60H60富勒烯异构体中,最稳定的Si60H60异构体是一个D5d对称性的管状构型,它的12个五元环聚合在管的两端。最稳定的Ih对称性的笼状异构体可以容纳10到12个内含Si-H键(H10@Si60H50和H12@Si60H48),而且它们也代表了最稳定的Si60H60异构体。我们发现Si60H60的角张力和扭曲张力比相应的C60H60低很多。采用密度泛函理论对Ge60H60的结构和稳定性进行了研究。结果表明:D5d对称性的管状构型远比Ih对称性的笼状构型稳定。笼状(管状) Ge60H60可以容纳的内含键的数目和相应的Si60H60一样。即最稳定的管状异构体可以容纳4到8个内含Ge-H键,最稳定的笼状异构体可以容纳10到12个内含Ge-H键(H10@Ge60H50和H12@Ge60H48)。最稳定的Ge60H60结构为笼状内含式结构。我们发现Ge60H60的角张力和扭曲张力比相应的Si60H60低。
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