在现代光学薄膜生产中，减反射薄膜是所有类型膜系中产量最大的一种，但是常用的制膜方法，如物理气相沉积及化学气相沉积等，制备大面积减反射薄膜成本较高，同时所生产的薄膜大多为多层膜体系，工艺较为烦琐，且所用基底材料大多为玻璃、石英或硅片，应用受到限制。本文分别配制TiO2和SiO2溶胶，并以此为原料采用涂布法在超大面积PET薄膜上制备减反射光学薄膜。研究过程中，用球磨法配制TiO2纳米粉溶胶，研究了影响球磨效果的因素。在用溶胶－凝胶法配制TiO2和SiO2溶胶研究中，讨论了配制过程中影响高折射率溶胶稳定性的因素。分别用甩膜法和提拉法制备TiO2-SiO2膜系减反射光学薄膜，确定了合适的制备工艺，为涂布法制备超大面积减反射薄膜奠定基础。最后，用涂布法在超大面积基底材料上制备得到TiNx-SiO2膜系光学薄膜，测试表明其减反射效果优于美国公司同类产品。由于成本低廉，工艺简单，操作方便，可批量生产，且其性能优良，该研究结果有望推进减反射薄膜的工业化进程。