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磁悬浮支撑技术具有无摩擦、无磨损等优点而获得广泛关注。掩模台是光刻机的核心单元,对磁悬浮掩模台的设计制造与控制的研究是一个复杂而又具有重要科研价值和实用意义的课题。磁悬浮掩模台的结构及其参数的设计很大程度上决定了磁悬浮系统承载能力。本文基于磁悬浮支撑技术和光刻掩模原理,采用CAD/CAE先进技术手段,提出一种新型磁悬浮光刻机掩模台,并进行了详细结构设计,以实现掩模台的快速精密定位。提出U型和E型电磁铁两种方案,对两种电磁铁分别进行了电磁力的计算。然后利用有限元软件对掩模台工作台进行了电磁场仿