三氧化钨（WO₃）薄膜具有着色效率高、可逆性好、响应时间短、着色和褪色时的光学变化范围宽、相对价格低,循环使用寿命长且无毒等优点,是研究最早且应用广泛的电致变色材料。然而,氧化钨在响应时间、致色效率及循环使用寿命等方面的不足仍制约其实际应用。本论文采用磁控溅射法制备WO₃薄膜。运用XRD、XPS、紫外分光光度计等测试手段分析了偏压、入射角度、热处理温度对薄膜的结构组成和光学性能的影响。实验结果表明:在室温下磁控溅射沉积的WO₃薄膜是部分结晶的非晶结构,衬底上的偏压不会显著增加WO₃薄膜的结晶度。但偏压会影响纳米级晶粒的尺寸,较高的偏压会导致氧化钨八面体晶格的畸变,使退火后薄膜呈现不同的相结构。采用掠射角磁控溅射法沉积纳米结构WO₃薄膜。当掠射角度大于80°时,得到了具有纳米斜柱状结构的WO₃薄膜。随着掠射角度的增加,斜柱状纳米结构越来越明显,比表面积增大。当热处理温度低于300℃时,WO₃薄膜呈非晶态,热处理温度在300℃-400℃时,WO₃薄膜发生非晶态向多晶的转变。以纯金属钨和钛的组合靶源,制备了钛掺杂纳米结构WO₃电致变色薄膜。通过XRD,SEM等分析手段表征了薄膜的表面形貌、微观结构和电致变色性能。实验结果表明:钛掺杂提高了薄膜的离子输送能力,着色褪色均匀。钛掺杂2%后,紫外区域吸收率平均提高了10%以上,有很好的紫外光吸收功能。钛掺杂4.5%的着色响应速度明显提高。