稀土配合物的合成、表征及掺杂氧化锌的制备与性能研究

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(1)稀土金属氧化物薄膜由于较高的介电常数,良好的绝缘性以及化学稳定性等优点而广泛应用于光,电,磁等领域。伴随着其广泛的应用,各种制备技术也逐渐被研究来获取稀土金属氧化物薄膜,这些制备技术主要分为物理沉积,溶液沉积和化学气相沉积三种。而在诸多的薄膜制备技术中,金属有机化学气相沉积(MOCVD)由于其操作简单,工艺可控等优点而成为薄膜制备技术的主流。MOCVD技术的关键是选择具有合适的物理化学性能的金属有机配合物前驱体。本论文的工作是设计合成了2-乙酰基-1,3-茚二酮缩对甲氧基苯胺,2-乙酰基-1,3-茚二酮缩对甲基苯胺,2-乙酰基-1,3-茚二酮缩苯甲酰肼,2-乙酰基-1,3-茚二酮缩8-氨基喹啉四种希夫碱配体,并用这些希夫碱配体分别与稀土离子作用合成了新型的配合物。对制备的配体和配合物采用元素分析,IR,1H NMR,X-射线单晶衍射等手段进行表征,以确定其组成。最后,利用TG-DSC对所合成的配合物的热稳定性和分解机理进行了初步研究。(2)氧化锌薄膜具有六角纤锌矿的晶体结构,是一种直接带隙的宽禁带半导体材料,室温下的带隙宽度为3.3 eV,激子束缚能高达60 meV,由于这些优异的性质,使其具有广泛的应用,近年来受到越来越多研究者的注意,成为半导体领域里的一个研究热点。本论文通过金属有机希夫碱前驱体溶胶凝胶法在玻璃基片上通过旋涂法及500℃退火处理成功制备了Sn:ZnO薄膜(Sn掺杂浓度分别为4 at.%, 6 at.%, 8 at.%),Ce:ZnO薄膜(Ce掺杂浓度分别为3 at.%, 5 at.%, 7 at.%)和Pr:ZnO薄膜(Pr掺杂浓度分别为6 at.%, 8 at.%, 10 at.%),对制备的薄膜通过XRD,SEM,EDS等手段研究了其组成和结构,最后通过IR-2双波段红外测试仪对薄膜的红外性能进行了分析。
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