AlON透明陶瓷是一种新型的结构-功能一体化材料，具有优良的光学和力学性能，被广泛应用于无线电子技术、特种仪器制造等诸多领域，具有广阔的发展前景。目前，国外对透明陶瓷的研究取得了一定的成绩，而国内对A1ON透明陶瓷的研究起步较晚，生产水平也与国外存在较大差距，因此开展对AlON透明陶瓷的制备及相关问题的研究具有重大的意义。　　 本文以碳热还原法自制的AlON粉体为原料，加入0.5％烧结助剂Y2O3，经过湿法球磨，干燥成型后，在N2气氛中进行无压烧结，制备AlON透明陶瓷。研究了素坯成型压力、降温速率、烧结温度和保温时间对AlON透明陶瓷物相组成、微观结构、光学性能的影响规律。　　 研究结果表明:以50MPa压力成型的素坯经烧结后，样品中裂纹数量最少，透过率值最高，致密度也十分接近理论值，光学性能明显优于以100MPa和150MPa压力成型的样品;控制降温速率可有效削弱样品在冷却过程中热应力的破坏作用，慢速降温可大幅度提高AlON透明陶瓷的透光性;烧结温度过低或保温时间过短，样品容易致密化程度不高，导致气孔残留，而烧结温度过高则使AlON的烧结活性降低，气体同样不易排除，且延长保温时间并不能起到消除气孔的作用，杂相和气孔都会造成光通过样品时发生折射和散射，影响样品的透光性，获得高透过率AlON透明陶瓷的最佳烧结工艺为:在1820℃～1880℃的温度范围内，保温时间90min～150min。