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伴随着精密加工、精密测量和航空航天技术的不断进步,对机械结构动态稳定性和抗振性的要求变得更加严格,大型光刻机设备、超精密光电测试仪器、超微细加工设备等也对防微振技术及科学实验环境提出了更加严格的要求。重力补偿器作为光刻机微动台中的一个重要部件,它的隔振性能将直接影响到硅片的曝光精度。振动干扰能够影响结构稳定性和系统的精度,因此需要对系统进行隔振处理,然而对于一些低频振动干扰,仅仅依靠被动隔振是无法抑制的。因此,本课题提出了一种基于双参数加速度反馈的主动隔振控制技术。为了提高系统的隔振性能,利用了加速