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CSCVI法制备C/SiC的过程特征及其模拟
CSCVI法制备C/SiC的过程特征及其模拟
来源 :西北工业大学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:simuwuzx
【摘 要】
:
该文首次提出了连续同步CVI(CSCVI)法,并结合C/SiC复合材料的制备,对CSCVI工艺的实现及主要影响因素、反应器的优化设计、碳界面层的制备、增韧相孔隙网络结构与形状对复合材
【作 者】
:
肖鹏
【机 构】
:
西北工业大学
【出 处】
:
西北工业大学
【发表日期】
:
2000年期
【关键词】
:
C/SiC复合材料
CSCVI法
有限单元法
显微结构
气相传质
沉积速度
致密度
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该文首次提出了连续同步CVI(CSCVI)法,并结合C/SiC复合材料的制备,对CSCVI工艺的实现及主要影响因素、反应器的优化设计、碳界面层的制备、增韧相孔隙网络结构与形状对复合材料致密度的影响、以及C/SiC微观结构等方面开展了研究.
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