锆钛酸铅镧(Pb1-xLax(ZryTi1-y)O3，PLZT)材料具有介电常数大、电光系数高且与现有的集成工艺相兼容等特点。目前PLZT是集成光学领域的研究热点，在制作全光通信网络和光通信器件的应用上有着很好的前景。与传统的电光材料相比，PLZT材料可以应用于研制高质量的电光开关、电光调制器等光波导器件，在集成光学领域具有很大的潜力。但是目前在制备PLZT薄膜上并没有统一成熟的方法，对于PLZT薄膜制备的研究具有非常重要的应用价值。　　本文采用溶胶，凝胶法制备PLZT薄膜，并在此基础上研究了各种工艺参数的影响，改善了PLZT薄膜的表面形态，增加了PLZT薄膜的厚度。通过一整套化学流程，制备出澄清透明的PLZT溶胶。然后，通过加入乙酰丙酮作为螯合剂，经过150℃和650℃两步热处理后，成功制备出了表面状况良好的PLZT薄膜。最后，通过更换基板和添加剂的比例，成功制备出了多层的PLZT厚膜，使得其厚度达到了2.6μm，满足通光所需要的标准。　　通过光学透过率测试发现，所制得的PLZT溶胶以及薄膜的光学透过性能良好，在所需的1550 nm波段透过率均达到要求。通过对PLZT粉末的XRD分析确定了其物相的正确性，通过对PLZT薄膜的XRD分析研究了其晶体结构和生长取向，发现其在100方向的择优生长性能良好。　　为了保证通光的可靠性，对PLZT薄膜热处理中的开裂现象进行了深入研究。通过加入定量的曲拉通X-100，成功的制备出表面无裂纹的PLZT厚膜。本文还对薄膜的开裂原因和防开裂机制做出了解释。　　本文最后还研究了PZT薄膜的制备，通过溶胶-凝胶法成功制备出澄清透明的PZT溶胶，并对PZT薄膜的光学性质和晶体结构作了分析，为光开关的制作打下基础。