高分子网络法制备纳米氧化锡

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SnO2在工业上有着广泛的用途,是重要的电子、陶瓷和化工材料。本文是以氯化锡为原料,丙稀酰胺为单体,N,N’—亚甲基双丙烯酰胺为网络剂,过硫酸铵为引发剂,采用高分子网络凝胶法制备SnO2纳米粉体,用X射线衍射分析(XRD),透射电子显微镜(TEM),差热-热重分析(DTA-TG)以及红外分析(FT-IR)等方法对纳米SnO2粉体的性能进行了表征。实验结果表明: 采用高分子网络法可以制备出微粒尺寸小于50nm的SnO2纳米粉体,而且粉体的平均粒径小,分散均匀,比表面积大,团聚少。单体与网络剂的配比以及烧结温度对SnO2纳米粉体微粒尺寸影响较大。 通过红外分析来确定烧结温度,配比为5:1、升温至500℃纳米SnO2粉体所得到的谱图基本没有其它杂质峰,结晶水被基本除去,说明烧结完全。温度升高时,微粒的晶格畸变率变小,结晶趋于完全,使得其与666cm-1相对应的吸收峰强度增加。而配比为5:1、升温至400℃纳米SnO2粉体所得到的谱图在1612cm-1处有一独立的吸收峰,该峰为自由水的H-O-H弯曲振动峰。这是因为在烧结过程中有部分结晶水被包在晶格中,没有被烧结出去。这也说明了最佳烧结温度为500℃。 TEM分析可知,单体与网络剂配比为4:1或6:1时所制得粉体虽然粒径小,但是分散性不好,有团聚现象发生。而单体与网络剂配比为5:1时,粒子分散均匀,且粉体的粒径较小,分布范围窄,平均粒径约为25-35nm,比表面积约为28-38m2/g。因而单体与网络剂的最佳配比为5:1。 XRD分析可知,单体与网络剂的配比为5:1,煅烧温度为400℃时,所得样品的X射线衍射图谱比标准卡片多出20=30.48°和46.89°两个峰,说明煅烧温度为400℃时烧结还不够完全。而配比为5:1所得到的干凝胶在500℃加热煅烧2h,所制得样品衍射峰的位置和强度与SnO2特征峰标准值完全一致。表明粉体为纳米SnO2,没有杂质存在,烧结完全。因而最佳烧结温度为500℃。
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