随着晶体生长技术的成熟和完善,大尺寸CaF2晶体作为当前综合光学性能最优良的人工晶体之一,应用价值日益凸显,但是其表面超光滑加工技术还有待完善。本文以φ200mmCaF2晶体为研究对象,以化学机械抛光技术为重点内容,以CaF2晶体材料去除率理论模型为基础,通过大量的实验对其抛光工艺进行了系统研究。首先采用单因素实验法,研究了抛光垫、抛光液等加工辅料的特性参数,以及主要抛光工艺参数对大尺寸CaF2晶体化学机械抛光过程的影响作用,得到了晶片抛光质量随各参数变化的规律曲线,然后以正交实验法对主要抛光工艺参数进行了工艺优化实验,得到了各工艺参数的最佳范围值,最后在上述实验研究的基础上,确定了大尺寸CaF2晶片的最优抛光工艺条件,并通过测定晶片样件加工实验的结果认为该工艺条件能够得到较为理想的抛光效果。