IV B族金属氧化物HfO_2和ZrO_2薄膜的制备、表征和性质研究

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本文的主要内容是金属氧化物薄膜HfO2和ZrO2的制备及相应的样品表征和性质研究。我们摸索发展了一种制备HfO2和ZrO2的薄膜的新方法,利用等离子体辅助反应脉冲激光沉积的方法进行样品的制备。主要研究了薄膜的光学性质及电学性质,对薄膜的结构及界面性质、薄膜的光学常数及带宽、薄膜的电容-电压特性以及漏电流-电压特性做了较深入的研究。同时还对薄膜进行了退火处理,并由此研究薄膜的热稳定性以及光学性质和电学性质的变化。我们对氧气进行电子回旋共振(ECR)微波放电产生高活性的氧等离子体,以此作为活
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