【摘 要】
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本文研究一种可制作微光学元件的DMD数字掩模光刻技术，应用数字化DMD显示器件建立数字光刻实验装置。根据DMD的周期结构的特点并考虑实际光刻系统的结构，建立一个可描述数字光
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本文研究一种可制作微光学元件的DMD数字掩模光刻技术，应用数字化DMD显示器件建立数字光刻实验装置。根据DMD的周期结构的特点并考虑实际光刻系统的结构，建立一个可描述数字光刻成像过程的特殊的部分相干成像模型，并开展了数字灰度光刻制作微光学元件的实验研究。首先，分析研究了DMD灰阶的产生方式。根据建立的基于DMD部分相干成像模型，对DMD单个微镜点成像，采用相干成像处理，对DMD阵列面成像采用非相干像强度叠加处理，并以数字光刻微透镜为例，进行计算模拟和分析。最后，研究用数字光刻和生化酶化学湿法刻蚀卤化银明胶制作连续浮雕微光学元件工艺，实验制作了有较好面型的微透镜阵列。
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