【摘 要】
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针对光学仪器的使用要求,在10*1.8mm的K9基底镀制抗激光损伤的高反射薄膜,能够同时满足半导体激光器和YAG激光器作为光源的特殊应用。本文根据薄膜干涉原理和使用技术要求进
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针对光学仪器的使用要求,在10*1.8mm的K9基底镀制抗激光损伤的高反射薄膜,能够同时满足半导体激光器和YAG激光器作为光源的特殊应用。本文根据薄膜干涉原理和使用技术要求进行膜料的选择、利用TFC软件进行膜系设计。采用电子束真空镀膜并加以考夫曼离子源辅助沉积,通过对镀制后基片的测试结果分析,调整镀膜工艺参数和监控方法减小了膜厚误差。选择TiO2和SiO2作为高低折射率材料,解决了薄膜的光学损耗和抗激光损伤等问题。制备出的抗激光高反射薄膜,当激光以45°角入射时,在900nm-1100nm波段间的P光与S光的反射率大于99.95%;并且通过环境检验,膜层能够工作于恶劣的空间环境和承受强激光光源的照射,满足使用要求。
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