FeN及FeNiN磁性薄膜的制备及结构和物性的研究

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采用反应离子束辅助溅射沉积的方法在不同基片上制备出有较高饱和磁化强度的FeN及FeNiN磁性薄膜,初步研究了不同制备条件,掺杂浓度等对薄膜结构、磁性的影响;同时对实验过程中的现象及发现的问题进行了简要的说明和讨论.
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