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FeN及FeNiN磁性薄膜的制备及结构和物性的研究
FeN及FeNiN磁性薄膜的制备及结构和物性的研究
来源 :清华大学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:beibeigou
【摘 要】
:
采用反应离子束辅助溅射沉积的方法在不同基片上制备出有较高饱和磁化强度的FeN及FeNiN磁性薄膜,初步研究了不同制备条件,掺杂浓度等对薄膜结构、磁性的影响;同时对实验过程
【作 者】
:
刘军
【机 构】
:
清华大学
【出 处】
:
清华大学
【发表日期】
:
2000年期
【关键词】
:
Fe-N薄膜
FeN
N薄膜
离子束辅助溅射
饱和磁化强度
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采用反应离子束辅助溅射沉积的方法在不同基片上制备出有较高饱和磁化强度的FeN及FeNiN磁性薄膜,初步研究了不同制备条件,掺杂浓度等对薄膜结构、磁性的影响;同时对实验过程中的现象及发现的问题进行了简要的说明和讨论.
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