【摘 要】
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目的:探究不同种类低温常压等离子体表面改性对氧化锆陶瓷与树脂粘接耐久性的影响。方法:制作氧化锆瓷片150个,随机分为5组进行不同表面处理。A组:空白对照组;B组:喷砂组;C组:氮气（nitrogen,N2）等离子体组;D组:氧气（oxygen,O2）等离子体组;E组:氩气（argon,Ar）等离子体组。制作氧化锆陶瓷与树脂粘接试件,每组粘接试件随机分成2个亚组（n=15）,分别接受0、10000次
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目的:探究不同种类低温常压等离子体表面改性对氧化锆陶瓷与树脂粘接耐久性的影响。方法:制作氧化锆瓷片150个,随机分为5组进行不同表面处理。A组:空白对照组;B组:喷砂组;C组:氮气（nitrogen,N2）等离子体组;D组:氧气（oxygen,O2）等离子体组;E组:氩气（argon,Ar）等离子体组。制作氧化锆陶瓷与树脂粘接试件,每组粘接试件随机分成2个亚组（n=15）,分别接受0、10000次冷热循环后进行剪切强度（shear bond strength,SBS）测量,记录各组粘接试件断裂时的最大力值,对测量结果进行统计学分析,并用体视显微镜观察粘接界面的断裂模式。结果:空白对照组即刻剪切粘接强度（4.33±0.90）MPa显著低于其余四组,差异有统计学意义（P＜0.001）;喷砂组（11.82±2.20）MPa和三种等离子体处理组（11.62±1.98）MPa,（11.09±1.86）MPa,（12.23±1.99）MPa即刻剪切粘接强度对比差异无统计学意义（P＞0.05）;10000次冷热循环后,空白对照组粘接试件全部脱落,喷砂组（3.92±1.19）MPa剪切粘接强度低于三种等离子体处理组（10.19±1.00）MPa,（10.48±1.35）MPa,（12.21±3.04）MPa,差异有统计学意义（P＜0.001）;三种等离子体处理组10000次冷热循环前后剪切粘接强度对比差异无统计学意义（P＞0.05）。断裂模式分析:10000冷热循环前后各组均未观察到内聚断裂,以粘接断裂为主,含少量的混合断裂。空白对照组循环前后均为粘接断裂,喷砂组循环前存在混合断裂,循环后则全部试件为粘接破坏,三种等离子体处理组冷热循环前后均观察到混合破坏。结论:低温常压等离子体表面处理改善了氧化锆陶瓷与树脂水门汀的即刻粘接效果,即使经人工老化处理,与临床最常用的氧化铝颗粒喷砂表面处理方式相比,低温常压等离子体的表面改性为氧化锆陶瓷提供了更持久的粘接效果。目的:探究低温常压等离子体改性处理后氧化锆陶瓷表面理化性能的变化。方法:制作氧化锆瓷片30个,随机分为5组（n=6）进行不同表面处理。A组:空白对照组;B组:喷砂组;C组:氮气（nitrogen,N2）等离子体组;D组:氧气（oxygen,O2）等离子体组;E组:氩气（argon,Ar）等离子体组。每组试件分别用扫描电子显微镜（scanning electron microscope,SEM）,静态接触角测量仪（water contact angle,WCA）表征各处理组的微观形貌及表面亲水性,用X射线能谱仪（X-ray photoelectron spectroscopy,XPS）比较各处理组表面元素和官能团的变化。结果:扫描电子显微镜（SEM）示:空白对照组氧化锆陶瓷表面较光滑,并可见打磨留下的不规则划痕及有机污染物残留;喷砂组表面为明显凹凸不平的粗糙面;而不同种类等离子体处理组表面可见与对照组类似的不规则打磨划痕,但其表面较清洁,未见明显污染物残留。静态接触角测量仪（WCA）分析表明:氮气等离子处理组、氧气等离子处理组和氩气等离子处理组接触角较喷砂组明显减小,差异有统计学意义（P＜0.05）。X射线光电子能谱（XPS）分析示:氮气等离子组、氧气等离子组和氩气等离子组较空白对照组表面碳元素含量显著下降,氧元素含量增加,氧/碳比值升高。结论:低温常压等离子体表面改性不会导致氧化锆陶瓷的物理形态发生实质性变化,并且可以有效提高氧化锆陶瓷表面润湿性,进而改善氧化锆陶瓷的粘接性能。
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