ZnO薄膜的制备及其N掺杂性能研究

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氧化锌(ZnO)作为第三代新型宽禁带半导体材料(禁带宽度:3.37eV),具有很高的激子束缚能(室温下约为60meV),这使得它可能在短波长光电器件(如:紫外发光二极管、紫外激光二极管、抗辐射太空紫外光电探测器等)方面发挥重大作用。目前,ZnO已经成为短波长光电功能材料领域中人们广泛关注的一个焦点。制备ZnO基光电器件的一个重要基础就是同时制备出n型和p型ZnO材料,然而目前高质量的p型ZnO薄膜制备较为困难,这已然成为制约ZnO材料在光电领域实用化的一个主要问题。本论文利用有机金属化学气相沉积(M
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