【摘 要】
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本文首先利用蒙特卡罗光子-电子耦合输运程序模拟计算了Au-Si界面的剂量增强,所得剂量增强系数DEF(Dose Enhancement Factor)与国外文献作了比较分析,说明蒙特卡罗耦合输运程
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本文首先利用蒙特卡罗光子-电子耦合输运程序模拟计算了Au-Si界面的剂量增强,所得剂量增强系数DEF(Dose Enhancement Factor)与国外文献作了比较分析,说明蒙特卡罗耦合输运程序的模拟计算方法用于有机半导体金属界面剂量增强效应的研究是可靠的。并利用该程序计算了X射线辐照有机半导体(CuPc)-金属界面下的剂量增强系数,得到在使用不同金属化层的情况下X射线对界面剂量增强效应的影响。通过蒙特卡罗模拟计算,本论文给出了X射线在Au/CuPc,W/CuPc,Ta/CuPc和双层重金属不同几何尺度结构下有机半导体(CuPc)-金属界面下产生的剂量和剂量增强系数。
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