本文选用AM60B镁合金为基体材料,采用二次回归正交旋转组合设计方法改变Na₂SiO₃、NaOH和KF三组分间的浓度含量,经过微弧氧化技术制备不同电解液方案中的膜层,首先建立了膜层两大耐蚀性指标腐蚀电流密度(J_corr)和点滴变色时间(Y_（Time）)的回归模型,通过方差分析检验及响应面图分析了电解液对微弧氧化膜的影响,并确定最优的电解液配方。其次,深入研究不同电解液中各组分的浓度配比对成膜过程、微观形貌、膜层厚度、物相组成以及耐蚀性的影响。研究的结果表明,基于二次回归旋转组合设计得到的腐蚀电流密度和点滴变色时间的耐蚀性试验结果的回归模型显著,失拟不显著,且各回归模型的拟合程度高、预测精度准。优化分析推测出各组分的最优浓度为:15g/L Na₂SiO₃+7.5g/L NaOH+3.5g/L KF,此时腐蚀电流可以达到1.66×10^-9A/cm²,膜层的耐蚀性最佳。在硅酸钠、氢氧化钠和氟化钾组成的基础碱性电解液中,三组分不同的浓度含量对膜层的微观结构及其耐蚀性的影响较大,其中任一组分的缺失都不利于成膜反应。实验分析显示,当电解液中各组分的总浓度较高,且含量合适时,所得膜层的表面孔隙较小,微孔尺寸大小均匀,微裂纹较少,膜厚较大,致密性较高,膜层的耐蚀性较好。推测的最佳浓度含量显示,电解液中主盐Na₂SiO₃的浓度含量应偏高,pH调节剂NaOH的浓度含量应适量居中,添加剂KF的浓度含量应偏低,有利于微弧氧化成膜。电解液中氟硅比的变化会对膜层的微观结构与耐蚀性有较大的影响。当氟硅比不为零时,成膜反应较为剧烈,膜厚较大,且在内膜层处有MgF₂相的生成,有利于提高膜层的耐蚀性。随着电解液中氟硅比的增大,改变了阴离子F^-与SiO₃^2-间的竞争与协同作用,使膜层的微观结构与耐蚀性会随着氟硅比的增大而变差。当氟硅比为0.5时,F^-与SiO₃^2-之间较好的协同作用形成了厚度较大、结构致密、缺陷较少的膜层,使得膜层兼备膜厚大与优耐蚀性的特性,是较优的氟硅比。电解液中不同组分总浓度的变化主要是通过影响成膜反应速率而影响膜层的厚度与致密程度,从而改变膜层的点滴耐蚀性,使得点滴耐蚀性随着各组分总浓度的增加而提高;但是各组分总浓度的变化对内膜层的影响较小,故而对膜层的电化学耐蚀性的影响较小,反而由于膜层结构上的差异使膜层的长时间抗腐蚀能力有所改变。