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通过化学气相沉积(CVD)直接得到的金刚石涂层表面粗糙且均匀性差,无法满足拉拔行业的要求,因此,对CVD金刚石涂层拉伸模具的工作面进行抛光是必不可少的一步。摩擦化学抛光以金刚石石墨化为基础,具有去除率高、设备简单等优点,应用前景广阔。本文从金刚石石墨化理论、微切削理论入手,分别采用摩擦化学抛光和机械抛光为粗、精加工工序,对CVD金刚石涂层拉伸模具工作面进行高效抛光。主要研究内容如下:(1)采用模块化的设计思路,分别对抛光设备进行了方案设计、机械结构设计、控制线路设计,并通过选材、加工、装配等后续处理,成功研制出了适合大孔径拉伸模具内孔CVD金刚石涂层抛光的设备。(2)针对摩擦化学抛光中出现的抛光盘磨损率高、材料去除率低等问题,本文从金刚石石墨化理论出发,根据摩擦化学抛光的材料要求,采用机械合金化-热压烧结技术成功制备出MnCuNi等五种新型合金抛光棒,并对它们的组织结构和力学性能进行了表征分析。(3)采用自制的合金棒进行摩擦化学抛光试验,结果表明:各合金抛光棒在金刚石的去除率及自身磨损率方面各不相同,其中MnCuNi合金棒抛光性能最好,去除率为1.58mg/h,磨损率最低为3.37mg/min;MnCuNi合金棒与电镀金刚石抛光头的抛光对比试验表明:在去除率、磨损率和性价比方面,摩擦化学抛光优于机械抛光。(4)采用粗精抛相结合的抛光工艺对大孔径CVD金刚石涂层拉伸模具工作面进行抛光实验,粗抛采用MnCuNi合金抛光棒,精抛采用电镀金刚石抛光头,研究表明:在一定的参数范围内,金刚石涂层的去除率随着速度和压强的增大而增大,表面粗糙度却呈现先减小后增大的趋势,即存在最优的线速度与压强;采用最优抛光工艺抛光(粗抛0.5h,精抛1.5h)后,金刚石涂层的表面粗糙度最低可达0.075μm。