大量的薄膜激光损伤实验表明，薄膜中的杂质污染是导致薄膜激光损伤的重要诱因，抑制薄膜中污染的产生和缺陷的形成是提高其激光损伤阈值的一个主要途径。因此，探究薄膜污染的来源，分析其特性，寻找控制污染、抑制缺陷发生和发展的途径，对于不断提高薄膜的光学性能和抗激光强度，改进并扩展强激光系统在科研及生产中的应用，具有非常重要的意义。　　 本论文主要着重于研究真空镀膜过程中引入的杂质污染对光学薄膜性能的影响。　　 首先综述了目前光学薄膜中污染的主要来源及分类，以及针对污染常用的探测手段和控制方法，并介绍了杂质缺陷吸收模型以及杂质缺陷诱导激光损伤的机理。　　 采用残余气体四极质谱分析仪作为探测高真空室内污染的主要手段，系统地研究了镀膜过程中污染的来源，发展及其特性。实验证明，高真空系统内主要的污染有：水蒸气、油蒸气以及金属粒子。　　 实验研究了水蒸气对于真空镀膜气氛的影响，并结合了光谱分析、微结构分析、吸收测量和激光损伤阈值测量等手段，分析了水蒸气含量的高低对光学薄膜性能的影响。实验结果表明，水蒸气含量的降低有利于制备出致密度高、抗激光损伤能力强的光学薄膜。　　 通过对镀膜过程中对气氛的监控，发现真空结构材料是真空室内污染来源之一。黄铜材料不宜应用在高真空烘烤系统中，其材料的不稳定性会导致薄膜沉积过程中吸收性介质的形成，从而成为薄膜激光损伤的起始破坏点。　　 实验分析表明镀膜过程中的油污染主要来自于真空泵的返油以及高真空硅脂，且油污染是降低光学薄膜激光损伤阈值的重要因素之一。　　 针对真空室的水蒸气和油污染，提出外加冷凝捕集器以及抽气过程中充入干燥的高纯氮气的方法，可以有效降低真空气氛中的杂质含量，提高真空度，制备出高性能的光学薄膜。　　 此外，为了提高气氛含量分析数据的准确性，在残余气体质谱图定量分析方面，提出了气体灵敏度因子的校正方法，并简述了其测定方法和校正应用。