近年来，随着工控技术的发展，计算机自动控制系统广泛地应用于国民生产的各个领域。对于真空镀膜设备，为了保障薄膜的质量及生产的效率，自动控制被引入到镀膜过程中，在先进设备及工艺处理中安排最佳运行方式，节约能源，提高设备效率。 等离子体增强化学气相沉积镀膜机(PECVD)可用于纳米级功能薄膜、硬质膜、光学薄膜的开发，本文的目的即是开发用于此种镀膜机的分布式控制系统。本文选定RF-500型射频等离子体增强CVD镀膜机为研究对象，根据科研工艺的要求，开发了一套分布式控制系统。该系统采用基本的两级控制结构，包括上位监控级和下位控制级，以工业控制计算机为主控制器，采用组态软件编程，通讯、数据处理能力强，控制系统的结构易于调整、升级，抗干扰能力强，通用性强。 控制级开发详细论述了控制现场的硬件结构设计。重点是以PLC替代继电器对镀膜机的开关量进行控制，通过PLC软件程序简化了原有的硬件逻辑电路。气体流量控制以质量流量控制器为核心，结合PID控制算法。温度控制以温度控制器为核心，针对大滞后的温度被控对象，采用专家PID控制算法，明显优于传统的PID控制算法。 监控级开发以组态软件的开发为重点，详细论述了控制对象的特性、数据处理方法和参数控制策略，实现了以下控制要求： (1) 实现设备运行状态的动态工况显示及设备运行控制。 (2) 实现现场数据的实时监测和趋势显示。 (3) 实现工艺运行和工艺参数的精确控制。 (4) 实现各种数据的存储及历史运行数据查询。 (5) 实现各种数据报表打印。 (6) 实现报警处理。 目前本文开发的分布式自动控制系统，已完成现场改造，经过系统整体调试，实践应用中证实了该系统的可行性。