微Fabry-Perot腔可调谐滤波器在超光谱成像、密集波分复用的光通信系统中有广泛的应用前景。它克服了传统滤波器体积大、功耗高、价格昂贵等缺点,具有调制速度快、光谱调节范围大、精度高、稳定性好等优点。随着微加工技术、微结构技术的采用,微Fabry-Perot腔可调谐滤波器有了新的发展方向。采用微加工技术将硅薄片镀上金属,制成采用静电力驱动的微F-P腔可调谐滤波器,实现光束滤波功能。　　本文着重从基于硅基片上的微F-P腔可调谐滤波器阵列的理论、结构模拟和制作工艺方面开展工作,主要内容包括:　　(1)从光学角度分析了微F-P腔的工作原理,根据设计要求计算F-P腔光学薄膜的光学参数,设计了5层结构的Ge/ZnS光学膜系,在3~5μm工作波长内达到反射率80％的要求;　　(2)提出了四种典型的F-P腔支撑结构,在结构与电场的耦合场中采用有限元方法分别分析了四种结构的电压-位移关系、位移对平行度的影响,通过比较为滤波器支撑结构的优化设计提供理论基础;　　(3)整合制作工艺流程,制作样片并测试,提出了工艺及测试中的问题;　　(4)提出了微F-P腔滤波器的工艺制作及结构优化方案。通过反刻工艺去除ZKPI-530型光刻胶边缘300nm尖峰,达到牺牲层平坦化的目的。更换用于剥离的光刻胶,优化其工艺参数,使其与工艺流程兼容。结合前期理论分析和实验工作,设计新型滤波器单元结构,设计工艺流程用掩膜版,并论证其工艺可行性。