【摘 要】
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该论文在对用射频磁控溅射方法制备的Ta/NiFe/Ta三层膜的结构和磁性的研究中发现现象.研究中使用了X射线衍射仪、振动样品磁强计、铁磁共振、透射电子显微镜等测量与实验方法
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该论文在对用射频磁控溅射方法制备的Ta/NiFe/Ta三层膜的结构和磁性的研究中发现现象.研究中使用了X射线衍射仪、振动样品磁强计、铁磁共振、透射电子显微镜等测量与实验方法,取得了一些有意义的结果,并从理论上验证了实验结果.我们用磁控溅射的方法制备了Ta(50A)/NiFe(t)/Ta(50A)三层膜.X射线衍射仪的测量结果表明材料为具有fcc(111)织构的NiFe,其晶格常数为3.5363A.透射电子显微镜的剖面观察表明Ta和NiFe的界面完全合金化,上下两层的厚度各为50A的Ta层几乎全部和NiFe混杂,没有清晰的界面.对铁磁共振谱的分析得到了不同厚度NiFe层的4πM<,eff>,在外磁场垂直膜面时得到了多重吸收峰,表明产生了自旋波的激发.我们用振动样品磁强计测量了它们的磁滞回线,发现在外磁场沿膜面的法线方向时,样品的磁滞回线是反走向的磁滞回线,并且这种磁滞回线只存在沿膜面法线方向附近的四度的角度范围内.基于界面处的NiFe-Ta合金层,我们提出了合金Ta-NiFe层和NiFe层之间具有反铁磁耦合及合金Ta-NiFe层具有垂直各向异性的模型来解释,通过数值计算,模拟了这种回线,和实验的结果很好的吻合.
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