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为了提高金刚石薄膜的质量和生长速率,该论文结合气相化学和表面化学模拟以及原位光发射谱诊断,把金刚石生长的传统C/H体系扩展到N/C/H体系,详细研究了生长气氛中加氮对金刚石的影响,并探讨了HFCVD系统中传热与传质的机制和光发射谱反馈控制途径.并利用此HFCVD系统,在Si/C/N/H体系中成功地制备出了一种性能与金刚石同样优异的SiCN薄膜材料,以及SiCN/金刚石和金刚石/金刚石多层膜.