纳米晶钨膜的沉积工艺研究及微结构表征

来源 :四川大学学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户：dhy333

【摘要】

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采用射频测控溅射方法,在Ar/He混合气氛下制备了纳米晶钨膜;利用增强质子背散射、慢正电子束分析和X射线衍射分析分别对钨膜中钨原子沉积情况、空位型缺陷分布及微结构进行了

【作者】

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王玲邓爱红汪渊王康王一航王飞安竹

【机构】

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四川大学原子核科学与技术研究所辐射物理及技术教育部重点实验室,四川大学物理科学与技术学院物理系,东华理工大学核工程与地球物理学院,南昌330013

【出处】

：

四川大学学报(自然科学版)

【发表日期】

：

2015年2期

【关键词】

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金属材料纳米晶钨膜磁控溅射增强质子背散射慢正电子束分析 Metallic materials Nanocrystalline tungsten fil

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采用射频测控溅射方法,在Ar/He混合气氛下制备了纳米晶钨膜;利用增强质子背散射、慢正电子束分析和X射线衍射分析分别对钨膜中钨原子沉积情况、空位型缺陷分布及微结构进行了分析.结果表明：纳米晶钨膜具有完好的体心立方晶体结构,沿（110）方向生长;微量的氦掺入有助于钨原子沉积,同时也有利于制备均匀性和热稳定性较好的厚钨膜.

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