<正> 1 前言等离子喷涂技术是表面工程中的一项重要技术,在现代工业中得到了广泛的应用,并取得了显著的社会效益和经济效益。等离子喷涂的效率和质量,不仅与喷涂工艺参数有关,而且与粉末的输送均匀性密切相关。不均匀的粉末送入等离子焰流中,不仅会引起等离子弧的不稳定,造成粉末的沉积率低,而且会使粉末的熔化和雾化不均匀,制备的涂层厚薄不均匀,结合强度下降,因而均匀稳定地输送粉末是制备理想涂层的前提。2 问题的提出随着喷涂技术的应用领域越来越广泛,对涂层质量的要求也越来越高,从而对粉末材料的选取和输送均匀性也就提出了相应的高要求。在许多领域需要采用微细粉末来制备更加致密、更加均匀、强度更高的涂层,微细粉末的流动性不好,不能用简单的漏斗式送粉器来输送粉末,国内一般采用B5微细粉送粉器,这种送粉器的结构原理见图1。送粉器的贮粉筒底部有一送粉孔盘,送粉孔盘上沿圆周均匀分布了许多小孔,工作时电机驱动孔盘旋转,电锤将粉末依次压入孔盘的每个小孔内,当孔盘上填满粉末的小孔转到粉末输出口的位置时,由于进气口与粉末输出口的压力差把小孔内的粉末吹出,将粉末通过管道送至喷枪。由于送粉孔盘的取粉小孔是间断的,导致其送粉不均匀,影响喷涂效率和涂层质量,因此,研制一种送粉均匀器,把B5