【摘 要】
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The titanium films,using magnetron co-sputtering method,are analysis by OM,SEM,AES and the parameters of appearance,composition,film thickness and uniformity ar
【机 构】
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Department of Reactor Engineering Research and Design,
【出 处】
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Annual Report of China Institute of Atomic Energy
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The titanium films,using magnetron co-sputtering method,are analysis by OM,SEM,AES and the parameters of appearance,composition,film thickness and uniformity are obtained.The deuterium absorption characterization,vacuum technic and the film activation process are studied using the micro pressure hydrogen absorption test system.The results show that the as-prepared titanium films exhibited
The titanium films, using magnetron co-sputtering method, are analysis by OM, SEM, AES and the parameters of appearance, composition, film thickness and uniformity are. The deuterium absorption characterization, vacuum technic and the film activation process are studied using the micro pressure hydrogen absorption test system. The results show that the as-prepared titanium films exhibited
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