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采用TeerUDP650型闭合场非平衡磁控溅射离子镀设备沉积CrN镀层，通过调变偏压获得不同结构和性能的CrN镀层。试验用划痕法测定了镀层结合强度、用球-盘方法测定了镀层摩擦系数和比磨损率、用压入法评价镀层韧性，硬度测试在维氏硬度计上进行。实验结果表明，随着溅射偏压的升高，离子速流提高，偏压过低或过高均使沉积速率下降，-50V，-70V偏压时沉积速率基本保持稳定。CrN镀层的硬度随偏压的升高而升高，但伴随着韧性的下降。高偏压下沉积的镀层摩擦系数呈下降趋势，偏压在-40V～-70V间制备的镀层对磨WC球时几