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以氧气为气氛对纳米级炭黑进行等离子体处理,通过改变处理功率、时间和压强等条件,考察处理后炭黑在水中的分散稳定性.当改变压强、时间和功率中的某一因素时,炭黑在水中的分散稳定性呈规律性变化,每个因素都存在相应的最适条件(30Pa,80W,5min).炭黑经氧等离子体表面改性后,其在水中的分散性大大提高,经过35d的自然沉降,分散性仍可这87%.经X-射线光电子能谱(XPS)分析发现,炭黑经氧等离子体表面处理以后,其表面引入了C=O,-OH,-COOH,O-C-O等含氧基团.