Ti-Si-N纳米多层膜的研究进展

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【摘要】

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TiN存在高温氧化不良、固有脆性等缺点。将硅混合到TiN网络中,形成Ti-Si-N纳米多层膜,此纳米多层膜的硬度有了显著的提高。Ti-Si-N纳米多层膜是一类有着广阔应用前景的新材料

【作者】

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韩瑞路阎红娟

【机构】

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北方工业大学机械与材料工程学院

【出处】

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材料导报

【发表日期】

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2019年S02期

【关键词】

：

TI-SI-N 纳米多层膜高温热稳定性摩擦学性能 Ti-Si-N nano-multilayer films thermal stability tribo

【基金项目】

：

国家自然科学基金(51575004,51775044,11704008),北方工业大学毓优青年、毓优团队计划和学生科技活动

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TiN存在高温氧化不良、固有脆性等缺点。将硅混合到TiN网络中,形成Ti-Si-N纳米多层膜,此纳米多层膜的硬度有了显著的提高。Ti-Si-N纳米多层膜是一类有着广阔应用前景的新材料,它在涂料、航空航天工业、电子器件等众多领域都有着广泛的应用。尤其在硬质合金刀具领域,较高的硬度、较好的耐磨性和韧性能够延长刀具的使用寿命。Ti-Si-N纳米多层膜制备方法有物理气相沉积和化学气相沉积两大类。物理气相沉积法是原材料在腔体的一端蒸发,然后沉积在腔体另一端较冷的基体上的方法。化学气相沉积在高温下发生化学反应,使钛、

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