TI-SI-N相关论文
Multiphase nanocomposite Ti-Si-N coatings deposited by pulsed dc plasma enhanced chemical vapor deposition technique on ......
用工业型脉冲直流等离子体增强化学气相沉积技术,在高速钢(W18Cr4V)表面沉积了Ti-Si-N复合薄膜,研究了Ti-Si-N复合薄膜的微观组织......
用工业型脉冲等离子体增强化学气相沉积设备,在550℃的高速钢基材表面沉积由纳米晶TiN,纳米非晶Si3N4以及纳米或非晶TiSi2组成的复......
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采用离子束溅射与磁过滤阴极弧共沉积技术在单晶硅片(400)表面制备Si含量(摩尔分数)为3.2%~15.5%范围内的TiSiN薄膜。采用X射线光......
采用离子束溅射与磁过滤阴极弧共沉积技术在单晶硅片(400)表面制备Si含量(摩尔分数)为3.2%~15.5%范围内的TiSiN薄膜。采用X射线光......
2000年,Veprek [1]等报道了在Ti-Si-N复合膜中获得了80～150GPa的超高硬度,这一超过金刚石薄膜硬度(70～90GPa)的结果令人惊讶并引起竞......
采用基于密度泛函理论的平面波赝势方法，研究了具有置换型界面的Ti—SiN的结构、弹性常数及热力学性质。在计算热力学性质时，先计算......
采用基于密度泛函理论的平面波赝势方法，研究了具有置换型界面的Ti—SiN的结构、弹性常数及热力学性质。在计算热力学性质时，先计算......
用内外靶配置的多弧-磁控溅射技术在单晶硅和硬质合金上制备Ti-Si-N纳米复合涂层,研究衬底偏压和Si靶溅射电流对涂层结构和力学性......
用内外靶配置的多弧-磁控溅射技术在单晶硅和硬质合金上制备Ti-Si-N纳米复合涂层,研究衬底偏压和Si靶溅射电流对涂层结构和力学性......
以高纯Ti和Si为靶材,在不同偏压下于Ar/N2气氛中溅射沉积了Ti-Si-N纳米复合膜,采用原子力显微镜、X射线衍射（XRD）和划痕法研究了复合......
纳米材料对于电子、信息、新型陶瓷、生物、化工、医药、机械、交通、能源、国防等领域有着重要意义和广泛的应用前景。TiN及Ti-Si......
为了准确地实现Ti—Si-N纳米复合薄膜生长过程动力学蒙特卡罗（KMC）4g4tb，采用简单原子之间的有效势拟合了第一性原理计算单粒子在TIN（0......
用工业型脉冲直流等离子体增强化学气相沉积(PCVD)设备,在高速钢(W18Cr4V)表面沉积Ti-Si-N三元薄膜,研究了不同N2流量对薄膜组织及......
Ti-Si-N薄膜以其高硬度、抗高温氧化性能好、摩擦系数小、弹性模量高、和基体的结合力强、热稳定性优良等性能正在成为超硬材料研......
近来,三元Me-Si-N复合膜因具有超硬效应而受到广泛关注.迄今为止大量研究集中于Ti-Si-N体系,其他体系报道较少.ZrN薄膜的力学性能......
