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期刊论文
化学置换镀铜的研究
化学置换镀铜的研究
来源 :电镀与精饰 | 被引量 : 0次 | 上传用户:flyrain_yan
【摘 要】
:
用电化学方法和扫描电子显微镜研究了钢铁置换镀铜反应及镀层形貌,结果表明:钢铁表面的置换铜镀层总是多孔的。加入增大铜、铁阴阳极极化的有机添加剂可以使镀层致密,减少孔隙总
【作 者】
:
陈永言
王瑞祥
陈松
戴盛世
【机 构】
:
武汉大学化学与环境科学学院,武汉风帆电镀技术有限公司,湖南浏阳九中
【出 处】
:
电镀与精饰
【发表日期】
:
2001年4期
【关键词】
:
化学镀
置换镀铜层
抑制剂
电镀
镀铜
镀层
electroless plating copper replacement coating inhibitor
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用电化学方法和扫描电子显微镜研究了钢铁置换镀铜反应及镀层形貌,结果表明:钢铁表面的置换铜镀层总是多孔的。加入增大铜、铁阴阳极极化的有机添加剂可以使镀层致密,减少孔隙总面积,有利于提高铜镀层与基体的结合强度。
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