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过渡层和界面电荷对金属硅化物/硅肖特基接触特性的影响
过渡层和界面电荷对金属硅化物/硅肖特基接触特性的影响
来源 :固体电子学研究与进展 | 被引量 : 0次 | 上传用户:tao009
【摘 要】
:
针对金属硅化物/硅接触存在过渡层,提出了分析这种结构的肖特基接触特性的模型;讨论了过渡层厚度,界面电荷及有关参数的影响,分析了不同退火条件下PtSi/Si肖特基二极管的特性。
【作 者】
:
马树魁
杨秉雄
【机 构】
:
铁道科学研究院,宁夏固原师专物理系
【出 处】
:
固体电子学研究与进展
【发表日期】
:
1997年4期
【关键词】
:
硅化物
肖特基接触
过渡层
界面电荷
硅二极管
Silicide
Schottky Contatct
Transition Layer
Interface
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针对金属硅化物/硅接触存在过渡层,提出了分析这种结构的肖特基接触特性的模型;讨论了过渡层厚度,界面电荷及有关参数的影响,分析了不同退火条件下PtSi/Si肖特基二极管的特性。
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