【摘 要】
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为了研究退火温度对电子束蒸发法沉积的LaTiO_3薄膜晶体结构的影响,使用X射线衍射仪对薄膜晶体结构进行表征,采用扫描电子显微镜和光学显微镜对退火处理后的薄膜表面形貌进行
【机 构】
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西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室/光电工程学院,陕西天元智能再制造股份有限公司
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为了研究退火温度对电子束蒸发法沉积的LaTiO_3薄膜晶体结构的影响,使用X射线衍射仪对薄膜晶体结构进行表征,采用扫描电子显微镜和光学显微镜对退火处理后的薄膜表面形貌进行了表征.使用图像二值化方法对薄膜晶化过程中产生的分形花样进行了采样,并通过分形计算获得了分形维数及多重分形谱,从而分析了不同退火温度下薄膜晶化特点.结果表明：随着退火温度的升高,非晶La_2O_3薄膜发生六方相形核长大和立方相形核长大两种不同的晶化过程,并且在立方相形核长大过程中伴随着分形结构的产生,薄膜在850~900℃之间存在两种相的
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