Ge50Te50/Zn15Sb85纳米复合多层薄膜在高热稳定性和低功耗相变存储器中的应用

来源 :物理学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：lrg123

【摘要】

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采用磁控溅射方法制备了Ge50Te50/Zn15Sb85纳米复合多层薄膜.研究了薄膜的电阻随温度的变化以及薄膜的晶化激活能.通过透射电子显微镜比较了晶化前后Ge50Te50/Zn15Sb85纳米复

【作者】

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朱小芹胡益丰

【机构】

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江苏理工学院数理学院

【出处】

：

物理学报

【发表日期】

：

2020年14期

【关键词】

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Ge50Te50/Zn15Sb85薄膜多层结构热稳定性相变存储器 Ge50Te50/Zn15Sb85 filmmultilayer structureth

【基金项目】

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国家自然科学基金(批准号:11974008),常州市重点实验室基金(批准号:CM20173002)资助的课题.

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采用磁控溅射方法制备了Ge50Te50/Zn15Sb85纳米复合多层薄膜.研究了薄膜的电阻随温度的变化以及薄膜的晶化激活能.通过透射电子显微镜比较了晶化前后Ge50Te50/Zn15Sb85纳米复合多层薄膜的截面多层结构.制备了基于[GT(7nm)/ZS(3nm)]5多层复合薄膜的相变存储器件,并测试了其电性能.研究表明,Ge50Te50/Zn15Sb85纳米复合多层薄膜具有较好的非晶态热稳定性和数据保持力,其器件具有较快的转变速度、较低的操作功耗和较好的循环性能.Ge50Te50/Zn15Sb85纳米复

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