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采用射频磁控溅射法在透明聚酯胶片上制备出了SnO2∶Sb透明导电膜,主要讨论了制备条件对薄膜光电特性的影响.制备的样品为多晶薄膜,并且保持了二氧化锡的金红石结构,具有明显的[110]的趋向.通过调节制备参数,制备出了电阻率为3.7×10-3 Ω*cm,平均透过率高于80%的高质量薄膜.
有机衬底上掺Sb的SnO2透明导电膜的性质与制备参数关系的研究
【摘 要】
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采用射频磁控溅射法在透明聚酯胶片上制备出了SnO2∶Sb透明导电膜,主要讨论了制备条件对薄膜光电特性的影响.制备的样品为多晶薄膜,并且保持了二氧化锡的金红石结构,具有明显
【机 构】
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山东理工大学物理系
【出 处】
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光电子技术
【发表日期】
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2002年2期
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