等离子热丝化学气相沉积金刚石膜工艺参数研究

来源 :功能材料 | 被引量 : 0次 | 上传用户：owenzhong2012

【摘要】

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采用等离子热丝化学气相沉积(PHFCVD)装置进行了金刚石薄膜的制备实验.实验条件为:氢气流量为200sccm,甲烷流量为2～12sccm,基体温度为700～900℃,偏压为0～400V,真空室压力为4kPa.

【作者】

：

毕京锋付强石玉龙

【机构】

：

青岛科技大学

【出处】

：

功能材料

【发表日期】

：

2005年7期

【关键词】

：

等离子热丝化学气相沉积金刚石薄膜 Atomic force microscopy Chemical vapor deposition Filaments (

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采用等离子热丝化学气相沉积(PHFCVD)装置进行了金刚石薄膜的制备实验.实验条件为:氢气流量为200sccm,甲烷流量为2～12sccm,基体温度为700～900℃,偏压为0～400V,真空室压力为4kPa.通过实验得出了甲烷含量、基体温度和偏压对沉积金刚石膜的影响,并运用扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)和X射线衍射(XRD)等测试方法对金刚石薄膜进行了观察分析.

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