【摘 要】
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在硅衬底上利用电子束蒸发沉积了TiO2薄膜，利用椭圆偏振仪测量了不同沉积温度下的TiO2薄膜的折射率，发现其折射率随着沉积温度的升高而升高。利用X射线衍射（XRD）仪对这些薄膜的结
【机 构】
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四川大学辐射物理与技术国家教育部重点实验室,中科院国际材料中心
【基金项目】
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总装预研基金(JG2006047)资助
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在硅衬底上利用电子束蒸发沉积了TiO2薄膜，利用椭圆偏振仪测量了不同沉积温度下的TiO2薄膜的折射率，发现其折射率随着沉积温度的升高而升高。利用X射线衍射（XRD）仪对这些薄膜的结构进行表征，发现折射率高的样品其结晶化程度也高。利用X射线光电子能谱（XPS）和傅立叶红外吸收谱（FT-IR）相结合的方法对薄膜的成分进行分析，发现内部存在低价态的钛氧化物，使薄膜的折射率明显低于固体块材料的折射率。
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