钨合金表面化学镀镍工艺

来源 :电镀与涂饰 | 被引量 : 0次 | 上传用户：bosimao_wang

【摘要】

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以硫酸镍为主盐、次磷酸钠为还原剂、柠檬酸钠为主络合剂，在钨合金表面进行化学镀镍。通过正交实验发现，pH对沉积速率的影响非常显著。并结合实际生产确定了最佳工艺条件为：30g／L

【作者】

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张颖王晓轩李涛韩振华

【机构】

：

济南大学化学化工学院

【出处】

：

电镀与涂饰

【发表日期】

：

2006年3期

【关键词】

：

钨合金化学镀镍稳定剂加速剂正交试验热处理耐蚀性 tungsten alloy electroless Ni plating stabilizer

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以硫酸镍为主盐、次磷酸钠为还原剂、柠檬酸钠为主络合剂，在钨合金表面进行化学镀镍。通过正交实验发现，pH对沉积速率的影响非常显著。并结合实际生产确定了最佳工艺条件为：30g／L的硫酸镍，25g／L的次磷酸钠，20g／L的柠檬酸钠，温度85℃，pH4．0。讨论了施镀时间对沉积速率与镀件外观的影响，以厦稳定剂硫脲与加速剂氟化钠对沉积速率和镀液稳定性的影响。通过x射线衍射图证实该镀层为Ni—P合金。采用SEM及EDS分别对镀前、镀后及热处理3种样品的微观形貌及镀层成分进行了分析与比较，结果发现，经700cc热处理

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