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采用射频溅射法以3Crl3马氏体不锈钢为基片制备了硫化钨薄膜。通过物相分析和表面形貌观察，以及测定微区化学成分、结合力和摩擦因数，研究了溅射功率、工作压力和沉积时间等溅射工艺条件对薄膜摩擦性能的影响。结果表明通过射频溅射法可获得非晶态WSx薄膜，薄膜的S／W比一般小于2，并受溅射工艺影响较为明显，随溅射功率的升高逐渐降低，随溅射时间的延长明显升高。薄膜结合力受溅射工艺影响并不显著。通过射频溅射所获得薄膜的摩擦因数在一定范围内与其硫钨比成反比。